La machine de lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) est un outil important utilisé par les fonderies pour la fabrication de puces avancées. ASML est la société qui fabrique ces machines, qui coûtent chacune $150 millions d'euros. La première machine EUV de deuxième génération, connue sous le nom de machine EUV High-NA, a été livrée à Intel pour son nœud de processus 18A (18 angströms) de 1,8 nm. Cette nouvelle machine permettra à Intel d'occuper la première place dans l'industrie en 2025. Elle présente une ouverture numérique plus élevée, ce qui signifie qu'un motif à plus haute résolution est gravé sur la plaquette de silicium. Grâce à cette machine, les caractéristiques peuvent être 1,7 fois plus petites avec une densité 2,9 fois plus élevée, ce qui contribue au développement de puces plus puissantes et plus économes en énergie.